HFCVD相关论文
2020年,一种由热丝法（HFCVD）合成的黑色多晶钻石饰品进入中国珠宝市场。这种热丝法合成黑色多晶钻石的宝石学性质仍为空白,给黑色钻......
根据目前热丝化学气相沉积（Hot Filament Chemical Vapour Deposition, HFCVD）金刚石薄膜制备设备现状:存在热丝多为水平放置碳化变......
利用激光技术在硬质合金刀具上分别制备椭圆织构和沟槽织构.同时,利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在刀具上分别制备硼掺杂无织构金......
为了更高效地加工碳/碳复合材料,在硬质合金刀具上采用热丝CVD法(HFCVD)沉积了微米纳米复合金刚石(micro-nanocrystalline composi......
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)和综合物理化学气相沉积(HPCVD)两种方法在单晶(-Al2O3基片上制备了MgB2超导薄膜。实验分原位法和非......
无论是应用在切割工具，光学组件或是微电子器件上，控制金刚石的结构与形貌在许多工业应用中都有着重要意义。本文利用热丝辅助化学气......
一维碳纳米材料因为其独特的力学、电学、热学等特性以及化学稳定性,而在许多领域显示出了良好的应用前景,特别是其优异的场发射特......
X射线光刻掩模技术(XRL)被认为是实现32nm技术节点的下一代光刻技术(NGL)之一。作为X射线光刻掩模材料的候选者之一，金刚石薄膜的许......
多晶Si薄膜太阳电池研究引起了人们的广泛关注,而采用大晶粒多晶Si薄膜是提高其能量转换效率的一条可行途径。本工作采用低压化学......
以WC -6%Co为基体 ,采用磁控溅射法 ,在原始试样、酸腐蚀试样以及酸蚀后进行氢等离子体脱碳处理的试样上制备Ti过渡层 ,然后碳化过......
针对CVD金刚石膜生长手动控制的种种不便,在生长系统中引入了计算机控制,实现了用计算机控制生长金刚石膜的衬底温度。详细介绍了......
Simulations of the Dependence of Gas Physical Parameters on Deposition Variables during HFCVD Diamon
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
以WC 6 %Co为基体 ,采用磁控溅射法 ,在酸蚀后进行氢等离子体脱碳试样上制备Ti过渡层 ,然后碳化过渡层为TiC。在电子辅助热丝化学......
A three-dimensional model was developed to investigate the influence of various hot filaments parameters on substrate te......
Characterization of (100)-orientated diamond film grown by HFCVD method with a positive DC bias volt
The (100)-orientated diamond film was deposited by hot-filament chemical vapor deposition (HFCVD) technology with a posi......
为改善钽喷丝头的品质,提高其硬度和耐碱腐蚀能力,利用热丝CVD制备不同粒径的金刚石薄膜,并通过对钽衬底的碳化处理,成功使之沉积......
采用热丝化学气相沉积（HFCVD）技术，以甲烷（CH4）和硅烷（SiH4）作为源反应气体在Si（111）村底上生长了晶态SiC薄膜。通过扫描电子显微镜（SEM）、X射......
利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)以CH4和SiH4作为反应气体在Si衬底上制备了SiC薄膜。用X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收谱(FTIR)等......
采用金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层是一种新型的微间隙室（MGC）结构。该文详细介绍和讨论了采用常规的微细加工工艺制备基于金刚......
以大面积HFCVD系统为研究对象,应用传热学理论建立了衬底温度场模型.根据金刚石成膜过程中对衬底温度大小及均匀性的工艺要求,对影......
热丝化学气相(CVD)法沉积金刚石具有其它沉积方法所无法比拟的优势而受到重视,然而在高温沉积过程中灯丝容易发生形变和挥发所带来......
采用热丝化学气相沉积（HFCVD）技术在Si（111）衬底上生长了SiC薄膜．通过电子能谱（EDX）、X射线衍射（XRD）和时间分辨光谱等分析手段对样品结构、......
采用热丝化学气相沉积（chemical vapordeposition,CVD）的方法,以丙酮为碳源生长金刚石薄膜时,利用等离子体发射光谱对生长过程中的等......
采用HFCVD技术,通过两步CVD生长法,以CH4+SiH4+H2混合气体为生长源气,在Si衬底上生长3C-SiC晶体薄膜.对所制备的样品薄膜在氮气气......
采用HFCVD制备金刚石薄膜的方法，以乙醇为碳源，氢气为载气，在适当的衬底温度下，合成出具有(100)晶面取向均匀生长的金刚石薄膜．SEM，XRD和......
以甲烷和氢气的混合气体为原料,用热丝化学汽相淀积法,在(100)硅衬底上800℃温度时异质生长出适合场发射的金刚石薄膜.然后用扫描......
目的保持硬质合金预处理后基体的强度和表面光洁度,并且提升沉积的金刚石薄膜的膜基结合力。方法使用真空管式炉设备对硬质合金进......
对热丝化学气相沉积（HFCVD）系统的小型化技术进行了研究，分析了小型化设计中存在的一些关键问题，设计了可以实现衬底工作台摆动的机构，......
热丝法化学气相沉积金刚石薄膜系统内, 衬底温度和碳源气体浓度是金刚石薄膜生长最为重要的参数.本文根据传热学基本原理,数值模拟......
介绍热丝化学气相沉积（HFCVD）法沉积大面积金刚石膜的设备的原理和设计，设备主要包括真空系统、水冷系统、热丝架、供气系统以及电路......
以甲烷、硅烷和氢气为反应气体，采用热丝化学气相沉积（HFCVD）法在单晶硅衬底上沉积纳米晶体碳化硅（SiC）薄膜．通过X射线衍射（XRD）和扫描电子......
使用热丝化学气相沉积（HFCVD）装置，在以WC—CO硬质合金为衬底，采用调节涂层生长参数，制备出性能优良的彬纳米金刚石涂层。用SEM，AFM，Raman......
通过改变生长参数，采用热丝化学气相沉积（HFCVD）法制备了从10μm到90nm四种晶粒尺寸的金刚石膜，并制作了三明治结构的光电导探测器。采......
采用热丝化学气相沉积（HFCVD）技术在石英玻璃上成功制备出高质量金刚石膜。采用表面三维轮廓仪和傅立叶红外光谱仪测试了不同工艺条......
Study of filament performance in heat transfer and hydrogen dissociation in diamond chemical vapor d
<正>Hot-filament chemical vapor deposition ( HFCVD) is a promising method for commercial production of diamond films. Fi......
以CH4和H2为反应气体,用热丝化学气相沉积(HFCVD)法在YG6(WC-6%Co)硬质合金基体上沉积了具有(110)和(100)织构的金刚石薄膜.用扫描......
SiC 具有禁带宽度大、击穿电场高、热导率大、电子饱和漂移速度高、介电常数小、抗辐射能力强、良好的化学稳定性等独特的特性,使......
用XL30FEG扫描电镜对热丝化学气相沉积(HFCVD)法合成的金刚石颗粒的初期生长过程进行了研究.结果表明,金刚石在p-Si(100)基片上的......
用热丝化学气相沉积制备了碳纳米管，并用扫描电子显微镜和透射电子显微镜研究了它们的结构。结果表明，用CH4和H2为反应气体制备的碳......
利用热丝化学气相沉积法(HF-CVD)进行了金刚石薄膜制备和碳纳米管形核作用的研究.获得了制备金刚石薄膜的优化工艺参数.利用碳纳米......
采用热丝化学气相沉积法,以铁作为催化剂,在较低的衬底温度合成纳米SiC薄膜.铁粒子是在400Pa氢气的气氛中,通过用脉冲激光烧蚀铁靶......
热丝化学气相沉积(HFCVD)生长金刚石膜过程中,在热丝相关工艺参数取优化值的前提下,对热辐射平衡体系中衬底表面辐照度和衬底温度......
综合不同种类单层金刚石薄膜的典型优点制备的复合金刚石薄膜具有优异的综合性能,本研究对比了UMCD、BDMCD、UFGD和两类新型硼掺杂......
采用HFCVD方法制备了掺硼金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜和X射线衍射光谱对样品的表面形貌及结构进行了分析.结果表明,随着硼含量......
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